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等离子清洗机清洗原理
编辑:东莞市长安准亮电子设备厂   时间:2017-05-10

等离子净化装置原则的真空状态,使用频率辐射,氧,氩氮,碳氟离子设备类型,高反应反应挥发性物质,而且是真空系统휘발성物质。

硅时层清洗设备使用中的等离子体蚀刻硅变,扩散过程,并且其上表面扩散硅片边缘(p)的硅芯片还传播如何通过阳极框硅导电电路。所以除硅硅层的边上,除1 - 3um水平转动。在硅片腐蚀机、反应气体四氟化碳、氧和氮。这个国家的原理,反应气体放电是氟碳,氧,硅片边缘形成反应气体,粉末材料,气体被抢走。


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